磁控離子濺射儀

產(chǎn)品介紹：

離子濺射儀或是噴金儀是一種利用真空鍍膜技術(shù)開(kāi)發(fā)研制成高科技產(chǎn)品，作為掃描電鏡所需要的一款制樣儀器，可以配合掃描電子顯微鏡很方便的觀(guān)測試樣的微觀(guān)形貌，從而提高試樣的導電性和導熱性。該儀器為全閉環(huán)真空設計配有全量程皮拉尼真空計等多個(gè)傳感器實(shí)時(shí)監控運行狀態(tài)，保證儀器安全穩定運行。自動(dòng)磁控離子濺射儀采用高性能旋真空泵快速獲得<1Pa的真空環(huán)境，高精度的濺射電源采用恒流控制來(lái)保證高精細的膜層質(zhì)量。同時(shí)平面磁控測射陰極減少等離子體對試樣表面的轟擊和熱效應，高性能的平面磁控濺射陰極可實(shí)現多種靶材的選擇 (Au、Pt、Ag、Pd等)，高精度的納米涂層為納米級別，可滿(mǎn)足現代分析實(shí)驗要求?？捎糜谥苽涓哔|(zhì)量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質(zhì)結等。

應用領(lǐng)域：

光學(xué)領(lǐng)域：中頻閉場(chǎng)非平衡磁控濺射技術(shù)應用于光學(xué)薄膜（如減反射膜）、低輻射玻璃和透明導電玻璃；

微電子領(lǐng)域：用于沉積具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的薄膜，如低溫下沉積氮化硅增透膜以提高太陽(yáng)能電池的光電轉換效率。

高溫超導薄膜、鐵電薄膜、巨磁阻薄膜等領(lǐng)域：磁控濺射技術(shù)在這些領(lǐng)域的研究中發(fā)揮著(zhù)重要作用；